第二百三十六章:技术交流会(2/4)
满智慧和力量的方式,将其转化为一种独特的优势和魅力。在场的ASML专家们,都不由得对这位来自东方的年轻女学者,刮目相看。
接下来,刘欣开始了她的技术报告。她没有透露任何与拂晓硬件平台相关的具体参数,而是将重点放在了朱雀算法,在理论层面的创新和优化上。
她深入浅出地讲解了,基于稀疏表示和压缩感知的新型OPC算法框架,展示了其在提升计算效率,和处理复杂图形方面的巨大潜力。
同时,她也坦诚地指出了,当前算法在收敛性和鲁棒性方面,存在的一些挑战,并提出了自己的一些思考和解决思路。
她的报告,逻辑清晰,论证严谨,既有理论高度,又有实践深度,充分展现了她扎实的学术功底,和敏锐的洞察力。
在场的ASML专家们,听得非常认真,不时有人低头记录,或者提出一些深入的问题。
刘欣都一一给予了耐心而专业的解答。
报告结束后,会议室里响起了热烈的掌声。范德文CTO带头鼓掌,脸上带着由衷的赞赏,和一丝难以掩饰的复杂神色。
“刘博士,您的报告,非常精彩!”他由衷地赞叹道:“您和您的团队,在计算光刻领域取得的进展,令人印象深刻。
特别是您提出的,基于稀疏表示的新算法框架,为我们打开了一扇全新的窗户。”
他顿了顿,话锋一转道:“不过,我注意到,您的报告,主要集中在算法层面。
我们非常好奇,您和您的团队,是否已经将这些算法,应用于实际的曝光系统中?
如果已经应用,效果如何?是否遇到了一些在仿真中,未曾预料到的工程问题?”
范德文的问题,再次精准地指向了,刘欣最想回避的核心,算法与拂晓硬件平台的结合情况。
刘欣心中微微一紧,但脸上依然保持着平静的微笑。
她端起面前的水杯,轻轻抿了一口,然后放下杯子,目光平静地迎向范德文说道。
“范德文先生,您这个问题,问得非常到位。算法,终究是要服务于实际系统的。
我们确实正在进行,算法与硬件平台的集成验证工作。
不过,由于涉及到一些尚未公开的技术细节和商业机密,恕我暂时无法透露具体的情况。”
她顿了顿,然后,仿佛做出了一个重大的决定,缓缓说道:“不过,为了表示我们对与ASML,进行真诚技术交流的诚意,我愿意向各位展示一段,我们最近在内部进行的一次,针对特定测试图案的曝光实验结果。”
她说完,在笔记本电脑上操作了几下,然后投影屏幕上,出现了一张清晰的扫描电子显微镜图像。
图像上,是一排排线条清晰、边缘锐利、间距均匀的纳米级线条。图像的左下角,标注着一行小字: “Line/Space = 100nm / 100nm. Process: Immersion Lithography. Source: Internal.”
会议室里,瞬间安静了下来。
100纳米等宽等距线条!而且,是通过浸没式光刻工艺实现的!
这个结果,虽然比ASML内部已经取得的浸没式光刻实验结果,在分辨率上还有一些差距。
但考虑到对方所使用的研究平台和资源投入,这个成果的含金量,已经足以让在场的所有ASML专家,感到震惊和忌惮。
这意味着,那个来自东方的幽灵,不仅在计算光刻算法上取得了领先,在浸没式光刻的实际